CVDiam-Equipments

Réacteurs CVDiam® HFCVD

La gamme complète de réacteurs CVDiam® HFCVD de NeoCoat remplis tous les besoins clients gràce à différentes capacités de dépôt pour des applications à l'échelle laboratoire, de production en grandes séries, pour des applications industrielles ou des projets R&D.

De l'étude de vos besoins à l'installation sur site, nous construisons un projet dédié avec vous et nous vous offrons une solution complète et professionnelle :

• Equipement HFCVD avec portes-substrats personnalisés
• Procédés détaillés et documentés
• Installation dans votre site de production
• Formation
• Support technique (maintenance et procédé)

Spécifications

• HF60 est le réacteur le plus adapté pour les outils de coupe grâce à une large porte en face avant qui facilite le chargement des posages
• HF120 a été designée pour les substrats de grandes dimensions comme les électrodes ou les wafers de silicium

Les réacteurs CVDiam® HF peuvent être utilisés soit avec des filaments de tantale ou de tungstène en fonction de vos applications

Les réacteurs avec les procédés NeoCoat® (prétraitement et revêtement) peuvent être utilisés pour fabriquer des couches de diamant avec différentes spécifications : NCD (nanocristallin) – MCD (microcristallin) – différentes épaisseurs

Composants principaux

Nos réacteurs à filament chaud CVDiam sont composés de pièces de qualité provenant des principaux fournisseurs de composants du vide ou conçus/usinés dans des ateliers suisses :

• Système de maintien et de tension des filaments à l'horizontal
• Alimentation électrique DC,
• Cuve double paroi en acier inoxydable,
• Panneau de gaz (H2, CH4, N2, autres),
• Système de pompage et de réglage de pression,
• Automate,
• Ecran tactile et PC industriel (Windows 10),
• Interface graphique,
• Circuit de refroidissement avec échangeur thermique indépendant,