neoDiam®-Coatings
Principales données
Les réacteurs HFCVD de NeoCoat possèdent les spécifications suivantes :
- Dépôt de de couches minces de diamant sur une surface jusqu'à 0.5 m²,
- Capacité de production permettant le dépôt sur un grand nombre de pièces jusqu'à plusieurs milliers par semaine en fonction de la taille de la pièce.
Grâce à ses procédés exclusifs d'ensemencement des substrats, NeoCoat est capable de fournir :
- Des couches très minces sur des surfaces complexes comme des wafers structurés ou des pièces usinées complexes
- Des couches minces de diamant polycristallin avec des taux de carbone hybridé sp3 très élevé (>99.5%), des tailles de grain très faibles qui permettent d'obtenir des rugosités de surface très faibles, et des propriétés proches du diamant massif.
- Des couches de diamant nanocristallines très lisses pour des applications mécaniques ou des MEMS
- Les propriétés des différentes couches minces de diamant sont résumées dans notre flyer (A télécharger svp).
| Substrat | p-Si, n-Si, SiC, Si3N4, carbone, métaux réfractaires carbures cémentés, silice, alumine |
| Taille des substrats | Jusqu'à 400 mm |
| Géométrie des substrats | Usinés 3D, structurés, plats... |
| Epaisseur du dépôt | 100 nm à 50 µm |
| Structure du dépôt | Microcristalline ou nanocristalline |
| Rugosité (RMS) | Microcristallin : 0.1µm pour 3µm d'épais Polissage optionnel pour réduire à 2nm |
| Nanocristallin : < 30nm (indépendant de l'épaisseur) | |
| Concentration en bore | 100-10000 ppm |
| Uniformité sur 100 mm | ±5 % |
Principales applications
- Thermique
- Disques de polissage
- Wafers de silicium revêtus de diamant
- Augmentation de la durée de vie des joints rotatifs
- Couche de protection sur des substrats transparents